שיטת הסינתזה שלו משתמשת בעיקר בסיליקון יסודי ובחנקן לתגובה כימית בתנאים של 1,300 מעלות צלזיוס עד 1,400 מעלות צלזיוס, ולאחר מכן משיגה סיליקון ניטריד. זה יכול גם להיות מסונתז באמצעות diimine, או פחמן ניתן להשתמש. תגובת הפחתה תרמית מסונתזת תחת חנקן בין 1,400 מעלות צלזיוס ל-1,450 מעלות צלזיוס. תגובת הפחתת קרבותרמית היא דרך פשוטה ואמצעי חסכוני לייצור אבקת סיליקון ניטריד בתעשייה.
אם אתה רוצה להפקיד סיליקון ניטריד על מוליך למחצה, אתה יכול להשתמש בטכנולוגיית שקיעת אדים כימית בלחץ נמוך בטמפרטורה גבוהה יחסית באמצעות תנור צינור אנכי או אופקי, או שאתה יכול להשתמש בטכנולוגיית שקיעת אדים כימית משופרת בפלזמה בטמפרטורה גבוהה יחסית . בצע תחת ואקום נמוך. מכיוון שפרמטרי תא היחידה של סיליקון ניטריד שונים מאלה של סיליקון אלמנטרי, סרט הסיליקון ניטריד שנוצר יפיק מתח או מתח בהתאם לשיטת השקיעה. במיוחד כאשר נעשה שימוש בטכנולוגיית שקיעת אדים כימית משופרת בפלזמה, ניתן לכוונן אותה באמצעות פרמטרי התצהיר פועלים כך להפחתת המתח.
סיליקון ניטריד גרגירי קשה לעיבוד ולא ניתן לחמם מעל נקודת ההיתוך, כי אם חריגה מנקודת ההיתוך, הסיליקון ניטריד יתפרק לסיליקון וחנקן, ולכן יש לשים לב לכך במהלך העיבוד.
